【信報財經新聞】科技媒體The Information報道，中國已開始生產自主研發的深紫外光(DUV)光刻機，這種關鍵晶片製造設備長期以來一直由荷蘭供應商ASML主導。
據報，初期產量將受到限制，今年約生產5部DUV光刻機，明年則增至約20台。這些設備預計將於今年交付給中國領先的晶片製造商，包括中芯國際(00981)、華虹半導體(688347.SS)和長鑫存儲。
這一突破最終可能挑戰ASML在中國市場的主導地位，但該系統在性能和可靠性方面仍存在差距，在實現量產前還需要進一步測試，因此目前這家荷蘭公司的優勢依然穩固。
據悉，中國也在研發國產極紫外光(EUV)光刻機，但目前仍處於原型機階段。
