【信報財經新聞】為保護布圖設計專有權，鼓勵集成電路技術創新，中國公布修訂後的《集成電路布圖設計保護條例》，加強專有權保護，明確權利範圍界定標準，加大侵權賠償力度；並明確，對集成光子、量子等功能的集成電路的布圖設計，亦可依此條例予以保護。
引入最高5倍侵權懲罰賠償
中國政府網刊登該條例全文稱，對故意侵犯布圖設計專有權，情節嚴重的，可以在按照上述方法確定數額的1倍以上5倍以下確定賠償數額。
條例規定，任何國家或者地區在集成電路布圖設計保護方面對中國採取歧視性的禁止、限制或者其他類似措施的，中國可以根據實際情況對有關國家或者地區採取相應的措施。
條例亦規定，提出布圖設計登記申請，不得弄虛作假；濫用布圖設計專有權，排除或者限制競爭，構成壟斷行為的，將依法處理。
條例明確，中國自然人、法人或者非法人組織創作的布圖設計，享有布圖設計專有權；外國人、外國企業或者外國其他組織創作的布圖設計首先在中國境內投入商業利用的，享有布圖設計專有權。
布圖設計專有權保護期10年
修訂後的條例自10月15日起施行；布圖設計專有權的保護期為10年。
原條例出台於2001年，當時中國集成電路產業規模很小。近年來中國在人工智能、先進製造和半導體領域的技術迭代持續加快，芯片設計和知識產權保護的重要性顯著提升。尤其近日內存芯片製造商長鑫科技在A股掛牌上市，成為近年來中國半導體產業發展的最新案例。
