【信報財經新聞】路透引述消息人士報道，中國科學家今年初在深圳打造出一台極紫外光(EUV)光刻機的原型機，將用於生產尖端半導體晶片，這些晶片將為人工智能(AI)、智能型手機以及現代武器系統提供動力。
這項被形容為「中國曼哈頓計劃」的秘密工程項目，凸顯中國銳意在AI晶片技術領域與西方匹敵。所謂「曼哈頓計劃」，即美國秘密研製原子彈的戰時計劃。
這台EUV光刻機由荷蘭晶片設備製造商ASML的前工程師打造，他們對ASML的EUV光刻技術實施了逆向工程。中國的原型機能夠成功產生EUV光，但尚未生產出能運作的晶片，政府的目標是在2028年實現晶片生產，但更有可能到2030年才實現量產。
這項計劃在中國國家半導體戰略框架下運作，並由中共高層領導監督，華為在其中扮演核心角色，負責協調一個由國家科研院所、供應商和工程團隊組成的網絡，這個網絡涉及數千名工作人員。
EUV光刻機是全球晶片競賽中最精密的製程之一，利用極紫外光在矽晶圓上蝕刻出超精細電路，從而能夠生產出世界上最強大的晶片。此前，這項技術一直被西方供應商壟斷，中國的目標是最終使用完全國產的設備生產先進晶片，從而擺脫對美國及其盟友供應鏈的依賴。
